从7nm到5nm:国产光刻机的突破,从告别自嗨开始

大家应该都知道,我们国家的科技,在很多方面都被牵制,比如说很重要的光刻机。
那么,为什么说光刻机很重要?
光刻机(Lithography Machine),实际上是一种用于集成电路(IC)制造的关键设备。
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它通过在硅片上投射光源,将芯片设计中的图案按照一定比例缩小并转移到硅片上,形成微小的电路结构。
而在半导体工业中,它的精确度和性能对于芯片制造的成功至关重要。
但我们国家,偏偏在这方面,真的被西方进行了科技垄断得很厉害。
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虽然,国内一直在进行相关的研发,希望可以突破垄断,但似乎有点走歪了。
近期,光刻机市场出现了两个新动向。
首先,哈尔滨工业大学公布了一项名为"高速超精密激光干涉仪"的研发成果,该成果获得了首届"金燧奖"中国光电仪器品牌榜金奖,并有人声称解决了7纳米以下的光刻机难题。
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另一个动向是国内某公司开发了SAQP技术,在不依赖EUV光刻机的前提下,实现了7纳米工艺,并且在经济方面仍有进一步的潜力,甚至可以实现5纳米工艺。
这两个消息一看,是不是觉得国内光刻机,有前途了!
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确实,这些动态消息引发了许多网友和业内人士的讨论,但也引发了过度自我陶醉。
在过去的一年中,从光子芯片到量子芯片、超分辨率光刻机等等,各种绕过光刻机路线的方案曾多次引起业内的热议。
但实际上,这些路径的研究仍停留在实验室设想的阶段。
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解决围绕光刻机制造和工艺层面的许多难题,不仅需要突破工艺精度,还需要在基础理论和创新方面进一步突破。
《中国科学院院刊》刊登了骆军委和李树深的文章《加强半导体基础能力建设,点亮半导体自立自强发展的“灯塔”》,也提出了以下观点:
认为中国半导体产业进入“黑暗森林”的原因主要在于,半导体领域的技术复杂度极高。
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半导体产业链包括上游的EDA软件和IP模块、半导体设备和材料,中游的芯片设计、制造、封装和测试,以及下游涉及的各类电子产品,其中涉及大量的材料、化学试剂、特种气体、设备和配件等。
而在半导体产业链上游的任何一种材料、设备甚至配件都可能成为竞争对手施加制约的手段。
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所以,尽管中国已经投入大量资金来发展半导体产业,但在人才储备和研发实力方面仍存在差距。
此外,供应链和知识产权等复杂问题也对产业发展构成挑战。
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目前,中国在该产业链中主要扮演低端加工和组装的角色,核心技术和高端制造仍然受制于西方发达国家。
因此,从实际角度来看,中国半导体产业确实面临着困境。
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虽然有一些突破性的进展和讨论,但大多数还停留在实验室层面,距离真正的突破仍然存在很大的距离。
但最后还是希望我们国家可以拥有自己的光刻机技术,不要再受制于人。
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